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最高院:有發(fā)明專利的,可以考慮減刑、假釋!

2016-11-16

  《最高人民法院關(guān)于辦理減刑、假釋案件具體應(yīng)用法律的規(guī)定》已于2016年9月19日由最高人民法院審判委員會第1693次會議通過,現(xiàn)予公布,自2017年1月1日起施行。

  其中《規(guī)定》的第五條具有下列情形之一的,應(yīng)當(dāng)認(rèn)定為有“重大立功表現(xiàn)”:

 ?。ㄋ模┯邪l(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新的;

  第(四)項(xiàng)中的發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術(shù)革新應(yīng)當(dāng)是罪犯在刑罰執(zhí)行期間獨(dú)立或者為主完成并經(jīng)國家主管部門確認(rèn)的發(fā)明專利,且不包括實(shí)用新型專利和外觀設(shè)計專利;第(七)項(xiàng)中的其他重大貢獻(xiàn)應(yīng)當(dāng)由罪犯在刑罰執(zhí)行期間獨(dú)立或者為主完成,并經(jīng)國家主管部門確認(rèn)。(來源:最高院)

 

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