為了防止申請人或權(quán)利人濫用修改和增加設(shè)計者的程序，韓國知識產(chǎn)權(quán)廳（KIPO）近期公布了修訂的外觀設(shè)計法實施細則，對于修改和增加設(shè)計者采取了更為嚴(yán)格的要求。該修訂后的細則已于2025年2月12日生效。

　　修訂后，針對修改和增加設(shè)計者的要求主要如下：

　　?提交后至專利授權(quán)決定下發(fā)前，若需要修改/增加設(shè)計者，申請人應(yīng)提供申請人和所有設(shè)計者簽署的聲明，且該聲明應(yīng)公證；

　　?專利授權(quán)決定下發(fā)后至專利注冊前，通常不再允許修改/增加設(shè)計者，但是允許因印刷排版或音譯問題導(dǎo)致的更正，或者是原設(shè)計者更改地址或姓名；

　　?專利注冊后，通常不再允許修改/增加設(shè)計者，但是允許因印刷排版或音譯問題導(dǎo)致的更正，或者是原設(shè)計者更改地址或姓名。